كشفت شركة إنتل، خلال مؤتمر Foundry Direct Connect، عن خططها الطموحة لبدء إنتاج رقاقات بتقنية 10A، التي تعادل دقة تصنيع 1 نانومتر، في أواخر عام 2027.

وتُعدّ هذه الخطوة قفزة كبيرة في مجال تصنيع أشباه الموصلات، حيث ستُتيح إنتل تصنيع رقاقات أصغر وأكثر كفاءة من حيث استهلاك الطاقة.

وأوضح كيفان إسفارجاني، نائب الرئيس التنفيذي ومسؤول العمليات العالمية الأول في إنتل، خلال جلسة مطولة، خريطة طريق الشركة على مدار السنوات القادمة.

وأشار الرسم البياني الذي قدمه إسفارجاني إلى قدرة إنتل على إنتاج آلاف رقاقات السيليكون بمختلف دقات التصنيع، مع التأكيد على أن القدرة تعني عدد الرقاقات التي يمكن البدء بإنتاجها، وليس إجمالي حجم الإنتاج.

ولم تحدد إنتل في إعلانها السابق موعد وصول تقنية 14A، التي تعادل دقة التصنيع 1.4 نانومتر، ولكن في هذا الرسم البياني، تشير الشركة إلى أنها ستبدأ إنتاج الرقاقات باستخدام تقنية 14A في عام 2026.

وأكد بات جيلسنجر، الرئيس التنفيذي لشركة إنتل، أن الحد الأدنى لمستوى التحسن قد يصل إلى 15% في تقنية 10A الجديدة، ما يُبشر بتحسينات كبيرة في الأداء وكفاءة الطاقة.

وتخطط إنتل أيضًا لاستخدام الذكاء الاصطناعي في جميع قطاعات الإنتاج الخاصة بها، بدءًا من دراسة تخطيط القدرات والتوقعات إلى تحسين عمليات الإنتاج.

وتسعى إنتل لإنشاء مصانع ذكية تعمل كليًا بالذكاء الاصطناعي في المستقبل، ما سيؤثر في كل جانب من جوانب عملياتها، بما في ذلك أتمتة العمليات الروبوتية في مجال التصنيع وإدخال روبوتات تعاونية تعمل بالذكاء الاصطناعي.

ولم تقدم إنتل جدولًا زمنيًا محددًا لمشروع الذكاء الاصطناعي، لكنها أكدت أنه سيلعب دورًا رئيسيًا في تحسين عملياتها وتعزيز قدرتها التنافسية في المستقبل.

وتُعدّ خطط إنتل الطموحة لتصنيع رقاقات 1 نانومتر واستخدام الذكاء الاصطناعي علامة فارقة في مجال تصنيع أشباه الموصلات، وتُبشر بتحسينات كبيرة في الأداء وكفاءة الطاقة في الأجهزة الإلكترونية المستقبلية.